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越南首座晶圆厂壮志未酬?Viettel 河内工厂奠基九月后仍未动工
越南首座晶圆厂壮志未酬?
AI 导读
路透社实地走访发现,Viettel 位于河内华乐高科技园区的越南首座晶圆厂在奠基九个月后仍未建起任何建筑,卫星影像显示工地荒芜,知情人士称 2027 年试产目标很可能无法实现。该项目设计月产能 3000 至 4000 片晶圆,原计划采用 32 纳米制程,但 Viettel 与 ASML 的 DUV 光刻机采购谈判持续数月未达成协议,32 纳米表述也已从其网站撤下。
深度导读
2026 年 1 月 16 日,越南军队电信与工业集团(Viettel)在河内华乐高科技园区为越南首座半导体芯片制造厂举行奠基仪式,越共中央总书记苏林与政府总理范明正同时出席。Viettel 董事长兼总经理陶德胜中将在仪式上宣布,项目将于 2027 年底前完成投资建设、接收技术转让并启动试生产,2028 年至 2030 年完善工艺流程,目标 2030 年全面投产。工厂占地 27 公顷,设计月产能 3000 至 4000 片晶圆,面向电信、汽车、航空航天、医疗设备等产业,并计划采用 32 纳米制程。
然而九个月后,路透社实地走访发现,Planet Labs PBC 与空中巴士分别于 1 月和 10 月拍摄的卫星影像一致显示,现场尚未建起任何建筑。数名知情人士表示,2027 年启动试产的目标很可能无法实现。一名直接了解项目的人士称,Viettel 缺乏兴建晶圆厂的经验,相关行政程序又阻碍政府资金迅速到位,双重延宕之下时间表已难以维系。Viettel 回应称项目正按既定计划及时程推进,各项活动分阶段展开;越南财政部未回应置评请求。
设备端同样悬置。三名知情人士透露,Viettel 与荷兰阿斯麦(ASML)关于采购深紫外光曝光机(DUV)的谈判已持续数月,其中两人确认谈判涵盖这一晶圆制造核心设备,但双方至今未达成任何协议。路透社未能获知谈判迟滞原因,也无法确认磋商中的 DUV 机型——不同型号对应不同出口管制门槛,直接决定交易能否成行及成本。ASML 发言人拒绝评论。越南当局预估的 13 亿美元建厂成本中,设备采购这块关键拼图仍未落定。此外,32 纳米制程的表述已从 Viettel 网站悄然消失,Viettel 亦未披露是否已与成熟芯片制造商建立技术合作伙伴关系。
越南半导体产业的实际重心在另一方向。越南已是全球半导体组装、测试与封装(ATP)领域快速成长的枢纽:英特尔在胡志明市的封测基地是其全球最大封装测试中心之一,累计投资 41 亿美元;安靠在北宁省建有其全球最大封测厂之一;Hana Micron 与三星电子持续加码后段产能,三星规划投资 15 亿美元兴建芯片测试工厂。2025 年越南半导体与电子元件市场规模约 43.5 亿美元,2020 至 2025 年年复合增长率达 14.61%。人力层面,越南目前拥有约 6000 至 7000 名集成电路工程师,政府设定到 2030 年培养至少 5 万名半导体本科及以上人才的目标。
封测环节的繁荣建立在跨国企业数十年积累的制造体系之上,越南提供的是区位、劳动力与政策便利;而晶圆制造要求设备获取能力、工艺整合经验、稳定资金调度以及能驾驭数百道工序的工程师队伍,这些要素无法靠一场奠基仪式在两年内从无到有生成。ASML 谈判悬而未决、32 纳米信息撤回、工地荒芜,都指向同一结论:从后段向前段延伸,需要技术伙伴、出口许可与制度效率在同一时间窗口内同步到位。
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