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深光谷科技携玻璃基3D光波导产品亮相 COMNEXT 2026 东京光通信展
此去东京,大有「光」景|深光谷科技邀您相约 COMNEXT 2026
AI 导读
深光谷科技将于2026年12月2日至4日参加在日本东京举办的 COMNEXT 2026 光通信展,展位为西馆 C2-54。公司将展示激光直写3D光波导、多芯光纤FIFO波导芯片、3D波导多芯-MT组件、NPO/CPO高密度扇入扇出芯片及CPO可插拔连接器等产品,并展示晶圆级3D光波导加工与芯片量产能力。
深度导读
深圳市深光谷科技有限公司宣布将参加2026年12月2日至4日在日本东京有明国际展览中心举办的 COMNEXT 2026 光通信展(FOE),展位设于西展示栋4楼西馆 C2-54。公司此次以玻璃基3D光波导产品与整体解决方案为主题,面向AI算力、数据中心及 NPO/CPO 应用场景展示光互连能力。
展品包括五类:激光直写3D光波导解决方案、多芯光纤FIFO波导芯片及器件、3D波导多芯-MT组件、NPO/CPO高密度扇入扇出芯片及组件,以及CPO可插拔连接器。同时,深光谷还将展示晶圆级3D光波导加工与芯片量产能力,并与行业伙伴交流从芯片到组件的设计、集成与应用需求。
公司表示,期待围绕多芯光纤连接、PIC接口适配到 NPO/CPO 高密度扇入扇出芯片及连接器等方向,与客户探讨具体项目中的光互连需求,并建议提前联系销售团队告知到访时间与关注产品,以便安排现场接待与技术交流。
展会注册方面,日本时间2026年11月24日前注册可免费观展,截止后注册需支付5,500日元(含税)。深光谷定位为面向下一代AI算力基础设施的高科技创新企业,专注玻璃基3D光波导芯片及光互连核心组件的研发、设计与产业化,核心产品覆盖玻璃基3D光波导芯片、光互连核心组件及先进光互连解决方案,面向Tbps级光模块、NPO/CPO先进封装、AI数据中心及高性能计算等场景。
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